离子注入——一种有效的表面处理

引言离子注入在半导体工业中的应用已有相当长的历史,大约从60年代起离子注入就用于电子工业中的硅晶片掺杂。现已认识到与这一生产有关的最大优点是高的可控性、可靠性和工艺的可再现性,这是离子注入在这一领域不断成功的主要原因。早在70年代,英国Harwell原子能研究中心(AERE)率先在工业上开发离子注入以改善生产工具摩擦学性能的可能性。自那以来。