业界快讯
出处
《微纳电子技术》
CAS
2004年第10期47-48,共2页
Micronanoelectronic Technology
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1罗门哈斯公司电子材料公司研发出SSA阻障层研磨液[J].微纳电子技术,2005,42(4):200-200.
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2章从福.陶氏电子材料推出新一代可稀释硅溶胶研磨液[J].半导体信息,2010,0(6):39-40.
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3郑冬冬.日本半导体材料生产全面恢复全球半导体供应链第4季可望回归正常[J].半导体信息,2011,0(4):31-32.
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4佛山利阳基创新技术获市场认可[J].不锈（市场与信息）,2009(2):13-14.
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5罗门哈斯公司推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案[J].电子工业专用设备,2008,37(9):69-69.
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6罗门哈斯公司推出新的ACuPLANETM铜阻挡层CMP解决方案[J].电子产品可靠性与环境试验,2008,26(5):70-70.
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7罗飚.适应产业需求 同步产业发展——访BOC Edwards(上海)有限公司总经理Robert G..E Winter先生[J].中国集成电路,2003,12(50):38-38.
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