摘要
磁流变抛光技术可用于具有超光滑要求光学元件的超精密制造。在明确磁流变抛光机理的基础上,开发了油基磁流变抛光液,其体积比配方是:33.84%的羰基铁,57.34%的硅油,6%的氧化铈,2.82%的稳定剂。抛光液初始粘度达到0.5Pas,流变性具有较大范围的稳定性能。实验中,利用磁流变液在外磁场作用下形成的强剪切应力对一平面K9玻璃进行了可控抛光,结果证明其具有良好的抛光特性,抛光23分钟后工件表面粗糙度降低到0.6739nm。
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出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第10期28-31,共4页
Opto-Electronic Engineering
基金
国家自然科学基金资助项目(50175062)
关键词
磁流变抛光
非球面
粗糙度
光学精加工
Magnetorheological finishing
Aspheric surface
Roughness
Optical finishing
