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积层板化学镀Cu工艺

Electroless Copper Plating Process for Build-up Board
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摘要  概述了具有盲导通孔的积层板化学镀Cu工艺,可以在盲导通孔内部形成均一厚度的化学镀Cu层,适用于制造高厚径比和高可靠性的积层板。 This paper summarizes electroless copper plating process for build-up board having blind via hole.Equal thick electroless copper plating layer can be formed.It's suitable to manufacturing high aspect ratio and reliability build-up board.
作者 蔡积庆
机构地区 南京无线电八厂
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期65-66,共2页 Surface Technology
关键词 积层板 盲导通孔 化学镀Cu层 厚径比 Build-up board Blind via hole Electroless copper plating Cu layer Aspect ratio
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