EDA
出处
《电子设计应用》
2004年第9期151-151,共1页
Electronic Design & Application World
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1建设国际水准服务平台迎接纳米技术挑战[J].半导体技术,2004,29(8):83-84.
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2江兴.IBM 22纳米芯片制造突破瓶颈 领先英特尔[J].半导体信息,2008,0(6):32-32.
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3Mentor Graphics公司与华为公司共建SoC软硬件协同验证环境[J].中国集成电路,2004(8):8-8.
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4CADENCE公司为PALLADIUM加速／仿真系统开发出先进的验证环境[J].电子与电脑,2004(8):143-143.
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5Cadence、中芯国际（SMIC）共同推出用于65纳米的低功耗解决方案[J].中国集成电路,2009,18(12):2-2.
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6本刊通讯员.中芯国际(SMIC)和Cadence共同推出用于65nm的低功耗解决方案Reference Flow4.0[J].电子与封装,2009,9(11):47-47.
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7Mentor Graphics布局IC验证市场推动中国IC产业发展 专访Mentor Graphics中国区总经理彭启煌[J].电子与电脑,2004(4):43-49.
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8胡平生.Cadence 创新工具助中华——访Cadence设计系统公司亚太区总裁兼公司副总裁居龙[J].半导体行业,2008(3):2-5.
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9Mentor Graphics推出Catapult C Synthesis算法合成工具[J].半导体技术,2004,29(7):100-100.
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10周检兵.Mentor以技术创新和完整的解决方案为电子设计业服务[J].集成电路应用,2002,19(3):58-58.
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