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利用微电子测试图形研究CMOS IC的锁定效应

Study on the Latch-up Effect of CMOS IC by Using Microelectronic Test Patterns
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摘要 体硅CMOS IC内不可避免地存在着寄生pnpn四层结构,在一定条件下,导致器件闭锁失效.本文结合专门用于研究CMOSIC内锁定的微电子测试图形,对以设计、工艺制备的一系列组合测试结构,进行测试,并对锁定现象作对比分析,提出了优化设计的途径. The parasitic pnpn structure exists inherently in bulk CMOS IC.It leads devices to Latch-up failures under certain conditions.This paper studies Latch-up behavior comparatively through a series of tests on a set of composite-test Structures which have been designed and technologically manufactured.Then the approaches to optimum design are proposed.
机构地区 电子科学技术系
出处 《华东师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第3期44-53,共10页 Journal of East China Normal University(Natural Science)
关键词 微电子 测试结构 CMOS IC 锁定 microelectronic test structure CMOS IC latch-up parasitic pnpn structure
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