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V_2O_5在γ-Al_2O_3表面上自发分散动力学研究 被引量:1

A Study on Spontaneous Dispersion Rate of V_2O_5 on the Surface of γ-Al_2O_3
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摘要 本文应用X射线衍射法定量测定V_2O_5晶相在γ-Al_2O_3上自发分散量随焙烧时间的变化,提出V_2O_5在γ-Al_2O_3上的自发分散动力学方程为:C_0-C=Bln(τ+1)+△C_1,并且说明在自发分散初期存在一快速分散过程。 Dependence of the residual crystalline V_2O_5on the surface of γ-Al_2O_3on heating time has been studied by XRD and suggested that the integrated rate equation of spontaneous dispersion of V_2O_5 on the surface of γ-Al_2O_3 is Co-C=BLn(τ+1)+△ C_1 and explained that dispersing quickly was Happened at the beginning in the heating process.
出处 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1993年第3期271-275,共5页 化学物理学报(英文)
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参考文献4

二级参考文献3

  • 1杨宏伟,第四届全国催化学术报告会论文集.下
  • 2匿名著者
  • 3谢有畅

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引证文献1

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