摩尔定律继续有效 英特尔芯片制造将用新工艺
出处
《新材料产业》
2004年第9期78-78,共1页
Advanced Materials Industry
-
1赵军.高K-金属栅极和45纳米[J].信息系统工程,2008,21(3):72-75. 被引量:4
-
2宋毅华,刘宏,谷云峰.射频电阻芯片的制作工艺探究[J].山西电子技术,2012(4):80-81.
-
3新建工厂 英特尔宣布将试验生产7nm芯片[J].半导体信息,2017,0(1):22-23.
-
4三星宣布今年晚些时候投产第二代10nm芯片 将再次领先[J].半导体信息,2016,0(3):29-30.
-
5IBM开发DNA芯片制造技术 设备成本不足百万美元[J].中国集成电路,2009,18(9):14-14.
-
6王智,叶婵.双面多层金属化工艺在轴向大电流金属封装二极管中的运用[J].科技信息,2013(7):135-135.
-
7什么是“邦定”[J].电子产品可靠性与环境试验,2005,23(2):24-24.
-
8梁剑,韩雁.智能开关电源集成电路TOPSwitch的分析[J].电子器件,2001,24(1):14-19. 被引量:4
-
9小彦.IBM等公司联合研制65纳米芯片制造技术[J].微电脑世界,2003(16):28-28.
-
10清风.冷酷的巨人——QX9650试用手记[J].数码世界(A),2008,7(4):42-43.
;