FSI为半导体产业提供清洗技术
出处
《中国集成电路》
2004年第8期11-11,共1页
China lntegrated Circuit
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1FSI公司在上海举办表面处理研讨会[J].集成电路应用,2004,21(5):33-33.
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2FSI国际表面处理产品在亚洲获得突破[J].电子产品世界,2004,11(10B):18-18.
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3全球晶圆清洗设备看好中国市场[J].集成电路应用,2004,21(5):35-35.
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4业界动态[J].半导体技术,2006,31(4):331-334.
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5周群.漫谈焦平面红外热像仪的使用与开发[J].红外技术,2004,26(2):13-17.
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6孙震海,韩瑞津.喷雾清洗中微颗粒受到流体作用力的研究(英文)[J].Journal of Semiconductors,2008,29(6):1081-1087. 被引量:1
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7FSI发布全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR工艺技术[J].电子产品世界,2006,13(06X):101-101.
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