NOVELLUS力推先进平面化系统
出处
《中国集成电路》
2004年第8期15-15,共1页
China lntegrated Circuit
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1Novellus推出铜制程CMP新产品Xceda[J].电子产品世界,2004,11(08A):145-145.
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2NOVELLUS力推用于65nm以及更小规格技术标准的先进平面化系统[J].电子设计应用,2004(8):123-123.
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3NOVELLUS始创翻新系统业务[J].电子设计应用,2005(4):127-127.
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4Entrepix寻求CMP外包服务的机遇[J].集成电路应用,2009(4):11-11.
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5巴斯夫选择Entrepix合作开发化学机械研磨浆[J].流程工业,2006(9):11-11.
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6罗门哈斯电子材料公司荣膺Chartered半导体公司授予的供应商质量改进大奖[J].微纳电子技术,2006,43(3):159-160.
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7罗门哈斯开设亚洲技术中心[J].中国电子商情,2008(8):93-93.
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8涂闽.罗门哈斯推出专用新型VISIONPAD^(TM)产品[J].上海化工,2007,32(8):48-48. 被引量：1
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9低压膜过滤技术在半导体领域的应用[J].工业水处理,2007,27(1).
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10罗门哈斯公司推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案[J].电子工业专用设备,2008,37(9):69-69.
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