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磁控溅射工艺参数对不锈钢薄膜结合性能的影响 被引量:3

Influence of Technological Parameters on Binding Ability of Stainless Steel Film by Magnetron Sputtering
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摘要  采用直流磁控溅射法在钢片上制备不锈钢薄膜,通过改变溅射功率、溅射时间、真空度、氩气压强、基片与靶材间距等,研究其对薄膜结合力的影响。为获得致密度高、结合力好的不锈钢薄膜提供了可行的工艺参数范围。 Stainless steel film was prepared on steel substrate by direct current magnetron sputtering. The effects of technological parameters on the adhesion of film were studied by changing sputtering power, sputtering time, vacuum degree, argon pressure, distance between target and suhstrate. Finally feasible technological parameter ranges are provided for acquirement of stainless steel films with high density, good binding force.
出处 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2004年第11期27-28,62,共3页 Materials Protection
关键词 磁控溅射 不锈钢薄膜 工艺参数 结合力 magnetron sputtering stainless film technological parameter binding force
  • 相关文献

参考文献7

  • 1钱苗根.材料表面工程技术及应用手册[K].北京:机械工业出版社,1998.
  • 2Mattox D M. Ion Plating-Past, Present and Future[J]. Surface and Coatings Technology, 2000, ( 11 ) 133 ~ 134:517 ~ 521.
  • 3曲敬信,汪泓宏.表面工程手册[K].北京:化学工业出版社,1998.
  • 4Bitensky L S, Sigmund P. Nonlinear Transmission Sputtering[J]. Nuclear Instrument and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1996,112(5):12~15.
  • 5刘金生.离子束沉积薄膜技术及应用[M].北京:国防工业出版社,2003..
  • 6Vossen J L K.Thin Film Processes[M].New York:Academic Press,1978.
  • 7黎刚,杨海强,王俊,崔明启.Mo沉积成膜质量与磁控溅射条件间关系的STM研究[J].电子显微学报,1997,16(4):453-454. 被引量:7

二级参考文献2

  • 1小沼光晴,等离子体与成膜研究,1994年
  • 2You H,Phys Rev Lett,1993年,70卷,19期,2900页

共引文献11

同被引文献33

引证文献3

二级引证文献16

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