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GaAs中准分子激光诱导掺Zn和Si的研究

A Study on Excimer Laser Doping of Si and Zn in GaAs
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摘要 本文报导了用XeCl激光器实现向半绝缘GaAs衬底掺Zn的实验结果,给出了Zn原子的纵向分布以及掺杂后方块电阻与激光脉冲次数的关系曲线,同时在相同衬底上采用气体源进行了掺Si实验研究. This paper reports the results of semi-insulating GaAs doped with zinc and silicon by using excimer laser and the depth profiles of dopant distribution in the GaAs substrates. The relationship between sheet resistance (Ω/□) and pulse number is discussed.
出处 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1993年第2期77-78,共2页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
关键词 准分子激光器 掺杂 砷化镓 excimer laser, doping, depth profiles of dopant distribution
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参考文献2

  • 1王季陶,半导体材料,1990年
  • 2华中一,表面分析,1987年

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