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浅谈酸铜镀液中的Cu^+产生的原因 被引量:2

Causes for the Formation of Cu+ Ion in Acid Copper Plating Bath
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作者 吴双成
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2004年第4期43-44,共2页 Electroplating & Pollution Control
  • 相关文献

参考文献4

  • 1吴双成.硫酸盐镀铜中Cl—的作用探讨[J].江苏电镀,2000,4(74):7-7.
  • 2武汉大学 吉林大学校.无机化学[M].高等教育出版社,1990..
  • 3江琳才.物理化学[M].高等教育出版社,1984..
  • 4潘教表 陈亚森 严恒太.显色剂及其在光度分析中的应用[M].上海科学技术出版社,1988.239.

同被引文献7

引证文献2

二级引证文献3

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