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复合钝化膜刻蚀工艺的探讨

The Study on the Etching Process of Complex Passive Film
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摘要 针对复合钝化膜刻蚀均匀性差的问题,提出改进光刻工艺,通过温度控制提高复合钝化膜刻蚀均匀性的方法。 The paper was focus on the phenomena of unhomogeneity of complex passive film's etching. We brought forward a method to improve uniformity of ething by means of temperature-controlling.
作者 唐晓颖 路连
机构地区 淮阴工学院
出处 《林业机械与木工设备》 北大核心 2004年第11期45-46,共2页 Forestry Machinery & Woodworking Equipment
关键词 复合钝化膜 刻蚀工艺 等离子 温度控制 电子元器件 complex passive film plasma etching process temperature-controlling
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