覆铜板技术(10)
Copper Clad Laminate Technology (Ⅹ)
出处
《印制电路信息》
2004年第2期27-32,共6页
Printed Circuit Information
-
1祝大同.积层法多层板发展大事记[J].电子电路与贴装,2003(5):9-17.
-
2庶民.高耐热,低介电常数CF膜[J].电子材料快报,1998(1):2-3.
-
3辜信实.覆铜板技术(1)[J].印制电路信息,2003(5):19-23. 被引量:6
-
4祝大同.移动电话用多层板走向更加高密度化、薄型化[J].印制电路信息,2007(4):7-13. 被引量:1
-
5祝大同.日本新型覆铜板的技术发展[J].绝缘材料通讯,1999(3):38-46. 被引量:15
-
6辜信实.覆铜板技术(连载)[J].覆铜板资讯,2003(2):4-13.
-
7杨中强,江周伟.积层法多层板(BUM)与高密度互连(HDI)[J].电子信息(印制电路与贴装),2000(5):27-28.
-
8龚永林.2015年印制电路技术热点[J].印制电路信息,2016,24(1):5-10. 被引量:5
-
9奚龙,王碧武,何岳山.一种无卤高Tg高耐热覆铜板的制备[J].印制电路信息,2015,23(2):34-37. 被引量:6
-
10张家亮.世界覆铜板新品种新技术赏析(2)——松下电工兼容无铅焊接的高耐热低介质损耗的PCB基板材料R-2125[J].印制电路信息,2009,17(1):25-31.