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前进中的曝光技术

Lithography on the Move
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摘要 简述了曝光的历史和发展趋势及当前的技术状态和技术难点,指出了将来的发展思路。 This article briefly describes history, trend, current technology conditions and difficulties. And development thought in the future is also pointed.
作者 陈江红 陈阳
出处 《电子工业专用设备》 2004年第12期66-68,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 曝光技术 电子束 超大规模集成电路 lithography technology EBL VLSI
  • 相关文献

参考文献2

  • 1S A Rishton. Microelectronic Engineering. 1989, 9, 183-186.
  • 2T Tao, J SRo, J Melngailis, et al. J Vac Sci Technol, 1990,138, 1826-1865.

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