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LG化学开发成功耐ITO溅镀的OLED空穴注入层材料
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摘要
韩国LG化学(LG Chem)开发成功了在ITO材料溅镀过程中不易损坏的OLED空穴注入层材料，并在“FPD International 2004”展会上展示。
出处
《新材料产业》
2004年第11期62-62,共1页
Advanced Materials Industry
关键词
OLED
ITO
注入
FPD
空穴
损坏
LG化学
韩国
展会
过程
分类号
TU43 [建筑科学—岩土工程]
TN873 [电子电信—信息与通信工程]
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新材料产业
2004年 第11期
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