摘要
介绍了气相中晶体生长的方法,如辉光放电溅射法和离子束溅射沉积法以及晶体外延生长的方法。
The crystal growth by glow discharge sputterings and ion beam sputterings and thecrystal epitaxy are introduced.
出处
《青岛化工学院学报（自然科学版）》
1993年第4期51-55,共5页
Journal of Qingdao Institute of Chemical Technology(Natural Science Edition)
关键词
分子束外延
化学气相沉积
晶体生长
glow discharge sputtering
molecular beam epitaxy
chemical vapor deposition
crystal growth
