期刊文献+

交流瓷介电容器的生产工艺对击穿电压的影响 被引量:2

Influences of Manufacturing Technology on Breakdown Voltage of AC Ceramic Capacitors
下载PDF
导出
摘要 击穿破坏电压是交流瓷介电容器最主要的技术参数,也是最难解决的技术难题。通过不同工艺的对比实验,具体研究了产品电极结构、引线焊接工艺、包封层固化工艺和环氧树脂包封工艺对交流瓷介电容器击穿电压的影响,据此优化了生产工艺,使得系列交流瓷介电容器耐压达到了较高的水平,Y1产品交流击穿电压达7.8kV以上,Y2产品交流击穿电压达6.0kV以上。 Breakdown voltage is not only a key characteristic of AC ceramic capacitors, but also the most difficult technical barrier. Manufacture technology was studied to see influences on breakdown voltage in manufacture procedures, such as plate construction of capacitor, leads soldering, hardening of coating and epoxy resin coat. Breakdown voltages are raise to very high levels after the improvements to the manufacture technology. For Y1 capacitor, breakdown voltage is at least AC 7.8 kV, for Y2 capacitor, it is at least AC 6.0 kV.
出处 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期38-40,共3页 Electronic Components And Materials
基金 佛山市 2003 年度产学研专项基金资助项目(2003A31)
关键词 电子技术 交流瓷介电容器 击穿电压 生产工艺 electronic technology AC ceramic capacitors breakdown voltage manufacturing technology
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献3

共引文献7

同被引文献8

  • 1国家标准GB/T14472-1998,电子设备用固定电容器.第14部分:分规范抑制电源电磁干扰用固定电容器.
  • 2国家标准GB9320-1988,电子设备用固定电容器.第八部分:分规范1类高压陶瓷电容器.
  • 3国家标准GB9322-1988,电子设备用固定电容器.第九部分:分规范2类高压陶瓷电容器.
  • 4Curran J A, Clyn T W. Thermo physical properties of plasma electrolytic oxide coatings on aluminium[J]. Surface and Coatings Technol,2005,223 : 168-176.
  • 5Parkhutik V P, Shershulsky V I. Theoretical modeling of porous oxide growth on aluminium[J]. J Phys D: Appl Phys, 1992, 25:1258-1263.
  • 6Thompson G E. Porous anodic alumina: fabricati on characterization and applications[J]. Thin Solid Film, 1997, 297: 192-201.
  • 7Masuda H, Hasegwa F, Ono S. Self-ordering of cell arrangement of anodic porous alumina formed in sulfuric acid solution[J]. J Eledtrochem Soc, 1997,144(5) : L127- 129.
  • 8刘雁潮,付桂翠,高成,李细辉,王史杰.照明用大功率LED散热研究[J].电子器件,2008,31(6):1716-1719. 被引量:38

引证文献2

二级引证文献7

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部