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非致冷红外焦平面器件用低应力复合介质膜

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作者 陈永平 刘强 梁平治
机构地区 中国科学院上海技术物理研究所
出处 《科技开发动态》 2004年第10期37-37,共1页 R&D Information
关键词 非致冷红外焦平面器件 低应力 复合介质膜 制备方法
分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
科技开发动态
2004年 第10期

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