一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法（专利号：95111978．8）

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摘要一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气。

出处《工业金刚石》 2004年第6期37-37,共1页

关键词激光化学气相沉积工作台金刚石膜反应室沉积温度衬底激光辐照高导热氢气抽真空

分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]

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