IBM要将磁带存储容量提高250倍

IBM公司Almaden研究中心的研究人员探索出了采用芯片技术的方法，通过使用离子蚀刻技术或喷镀沉淀技术，增加磁带的存储容量。其最终目标是缩小那些磁带磁迹的尺寸，使更多的数据能够压缩在相同面积的磁带上。IBM公司研究团队的高级管理人员Spike narayan说：“日前磁带磁迹的尺寸大约为10μm采用我们的方法将能够达到100TB的容量”。