2．16 W／C涂层热处理中的扩散过程研究

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摘要钨和碳都是面对等离子体的主要候选材料，碳是目前国际聚变装置应用最广泛的材料，由于难熔金属的优越性能，钨又是未来聚变装置上倍受关注的候选材料，所以研究石墨基体上的钨涂层有其应用上的现实意义。目前在ASDEX-U装置上部分第一壁采用了石墨基钨涂层，TEXTOR装置的限制器和偏滤器靶板也采用钨涂层。

作者杨霖许增裕

出处《核工业西南物理研究院年报》 2002年第1期84-86,共3页 Southwestern Institute of Physics Annual Report

关键词 W/C涂层热处理聚变堆材料石墨基扩散计算

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核工业西南物理研究院年报

2002年第1期

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