研发动态
出处
《计算机研究与发展》
EI
CSCD
北大核心
2004年第11期2043-2043,共1页
Journal of Computer Research and Development
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7松下与瑞萨确立32nm晶体管技术量产应用目标将用于便携产品及数字家电用系统LSl[J].中国集成电路,2008,17(11):10-10.
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8郑冬冬.美大学凭借双层栅极绝缘膜大幅减轻有机半导体的劣化[J].半导体信息,2011,0(2):16-17.
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9半导体前端工艺技术发展现状与展望(下)[J].电子产品世界,2004,11(12A):127-130.
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