iCMOS^(TM)——工业电子工程领域的重大突破
iCMOS-A Breakthrough In Industrial-Sector Electronics
出处
《今日电子》
2005年第1期77-78,共2页
Electronic Products
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1宫丽华.创新制造工艺为后盾 ADI iCMOS显著提高模拟IC性能[J].电子测试（新电子）,2005(1):84-84.
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2ADI推出多款多信道数据转换器[J].中国集成电路,2006,15(2):12-12.
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3iCMOS新工艺为精密模拟部件增加可靠性[J].电子设计技术 EDN CHINA,2005,12(2):19-19.
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4AD866x：16V低噪声R-R放大器[J].世界电子元器件,2006(8):76-76.
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5ADI公司发布创新的制造工艺ICMOS[J].电子世界,2005(1):83-83.
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6ADI推出iCMOS模拟IC顿起波澜[J].今日电子,2004(12):135-135. 被引量：1
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7ADI公司发布创新的iCMOS 圃旃ひ[J].电子产品与技术,2004(11):79-79.
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8ADI公司推出多通道数据转换器[J].中国电子商情,2006(2):84-85.
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9ADI公司推出高电压多通道ADC[J].单片机与嵌入式系统应用,2005(1):85-85.
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10ADI高性能输出驱动器提高工业和过程控制系统效率[J].单片机与嵌入式系统应用,2008,8(9):76-76.
