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用准分子激光作相移干涉仪照明
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摘要
德国的科技人员开发一种干涉仪可以改善用于半导体光刻的位相掩模特性。该仪器用ArF准分子激光作照明光源,可拍几张具有不同相关相移掩模的图片,并计算出位相分布。
作者
傅恩生
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2005年第1期58-59,共2页
Laser & Optoelectronics Progress
关键词
相移干涉
相移掩模
光刻
ArF准分子激光
半导体
照明
干涉仪
仪器
改善
科技人员
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN248.4 [电子电信—物理电子学]
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激光与光电子学进展
2005年 第1期
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