锗——重要的半导体材料被引量：1

Germanuim-Crucial Semi-Conduct Materials

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摘要金属元素锗(Ge),是德国化学家文克勒尔在1886年用光谱分析法首先发现的.由于科学技术水平的限制,人们长期不知道这种又脆又硬的浅灰色金属究竟有什么作用.40多年以后,人们才发现锗具有优异的半导体性能,可以用来制造晶体管,代替电子管使用.从此,锗开始进入电子工业及其他行业,发挥自己的作用.

作者李兵

出处《金属世界》 2005年第1期47-47,共1页 Metal World

关键词科学技术水平行业电子工业作用德国限制半导体材料半导体性能电子管晶体管

同被引文献2

1赵研,左敦稳,孙玉利,王珉.环境温度对单晶锗片低温抛光去除率的影响研究[J].人工晶体学报,2015,44(3):587-592. 被引量：1
2王勇,孙玉利,汤苏扬,刘志刚,左敦稳.冰粒型固结磨具抛光锗片的温度场仿真与实验研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2016,36(3):17-22. 被引量：1
3曹佳辉,朱益凡,曾良鹏,席珍强.(100)锗单晶片的位错腐蚀研究[J].浙江理工大学学报（自然科学版）,2017,37(5):657-661. 被引量：2
4王笃祥,李明阳,毕京锋,李森林,刘冠洲,宋明辉,吴超瑜,陈文浚.轻质柔性GaInP/Ga(In)As/Ge三结太阳电池及其性能研究[J].发光学报,2017,38(9):1217-1221. 被引量：2
5董军恒,李聪.锗单晶多线切割工艺研究[J].电子工业专用设备,2018,47(2):23-26.
6李金乐,李珊,杨晓京,马一鸣,张逸飞.不同腐蚀工艺对单晶Ge位错密度与微观形貌的影响[J].电子显微学报,2021,40(1):45-49.
7李聪,李志远,陶术鹤.多线切割工艺对单晶锗损伤层及几何参数的影响[J].材料导报,2021,35(S01):386-388. 被引量：3

金属世界

2005年第1期

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