创新制造工艺为后盾 ADI iCMOS显著提高模拟IC性能

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摘要目前集成电路制造工艺正在重新开拓工业市场,迄今为止,在电噪声环境中高电压工作的数据转换器、放大器、开关、多路复用器和其他器件一直在减小制造工艺尺寸的发展路线上努力不懈.对此,ADI(美国模拟器件公司)提出了iCMOS--工业CMOS制造工艺技术,使客户可以在采用亚微米(0.6 μm)尺寸工艺的器件上施加高达30V电压,可选的漏极扩展允许工作电压高达50V.

作者宫丽华

出处《电子测试（新电子）》 2005年第1期84-84,共1页 Micro-Electronics

关键词 CMOS 模拟IC 电噪声 ADI 数据转换器放大器多路复用器集成电路制造客户工业市场

分类号 F416.63 [经济管理—产业经济]

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