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干法等离子去胶 被引量:1

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摘要 本文主要介绍干法等离子去胶技术,包括去胶原理、方法、设备等,并且分析了等离子去胶引起的各种损伤机理,提出剥离问题及解决办法。
作者 宋湘云
出处 《微电子学》 CAS CSCD 1993年第6期50-55,共6页 Microelectronics
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