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一种超高速八位移位寄存器

A Very High Speed 8-Bit Shift Register
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摘要 介绍了一种超高速八位移位寄存器的设计和工艺制造技术。采用单元结构设计方法进行逻辑设计、电路设计、版图设计和整体设计,用3μm双埋层对通pn结隔离ECL技术进行工艺制作,其最高工作频率达到400MHz以上,工作温度范围为-55℃~85℃,比常规的TTL或者COMS移位寄存器工作频率高40倍。 The design of a very high-speed 8-bit shift register and its fabrication process are described in the paper. The cell structure is used for the design of logic,circuit and layout as well as overall planning. A 3-um ECL process is adopted to fabricate the device. A maximum operating frequency of 400MHz has been obtained, which is 40 times higher than that for a conventional TTL or CMOS shift register. The temperature range for the device is -55~85C.
机构地区 电子工业部第
出处 《微电子学》 CAS CSCD 1993年第3期17-22,共6页 Microelectronics
关键词 移位寄存器 ECL电路 硅双极工艺 Shift register,ECL circuit,Si bipolar process,Micro-assembly
  • 相关文献

参考文献2

  • 1(美)格拉(Glasser,L.A.),(美)多贝尔普尔(Dobberpuhl,W.D.)著,陈天鑫等.超大规模集成电路的设计与分析[M]科学出版社,1991.
  • 2[美]波拉特(Porat,D·I·),[美]巴纳(Barna,A·) 著,张广荩,赵文忠.数字技术引论[M]机械工业出版社,1985.

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