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掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用被引量：2

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摘要掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析，给X射线荧光分析技术带来了突破性的发展．目前，利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析，其检测限已达到ｐg级，硅片表层杂质分析的检测限达到10９个原子／ｃｍ２．文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子．

作者刘亚雯

机构地区中国科学院高能物理研究所

出处《物理》 CAS 北大核心 1993年第10期614-618,共5页 Physics

关键词掠入射全反射 X辐射荧光分析

分类号 O657.34 [理学—分析化学]

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物理

1993年第10期

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