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掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用
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2
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摘要
掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析,给X射线荧光分析技术带来了突破性的发展.目前,利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析,其检测限已达到pg级,硅片表层杂质分析的检测限达到109个原子/cm2.文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子.
作者
刘亚雯
机构地区
中国科学院高能物理研究所
出处
《物理》
CAS
北大核心
1993年第10期614-618,共5页
Physics
关键词
掠入射
全反射
X辐射
荧光分析
分类号
O657.34 [理学—分析化学]
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物理
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