摘要
从扩散动力学的角度出发 ,对自释釉在干燥过程和煅烧过程中物质迁移的基本机理进行了初步探讨 ,并指出了影响扩散过程的主要因素。
Depend on transference dynamics,discussed the mechanism of self-releasing glaze in drying and firing.After the effect of transference was analyzed.
出处
《陶瓷》
CAS
2005年第1期37-39,共3页
Ceramics
