制板工艺设备国内外现状
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1李晓红,钟秉福.用5微米工艺设备加工1～2微米窄条的光刻技术[J].微电子学,1991,21(6):56-59.
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2杨洪普,颜亨迪.离子注入机的国内外现状[J].微细加工技术,1992(2):1-14. 被引量：1
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3谢中生,葛劢.MCM开创封装技术新纪元[J].电子工业专用设备,1994,23(4):1-7. 被引量：1
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4王玉明.液晶显示的技术国内外现状[J].电子外贸,1999(9):56-57.
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5郝玉泉.美国的几种微电子工艺设备[J].航天出国考察技术报告,1996(1):96-100. 被引量：1
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6徐扬真.国外集成电路发展近况综述[J].航天出国考察技术报告,1994(2):136-145.
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7管慧.光刻胶处理系统的国内外现状[J].LSI制造与测试,1992,13(4):18-22.
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8戚元燧.采用光电技术测量微细线宽的探讨[J].光学工程,1989(6):6-12.
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9杨基南.液晶显示器的工艺设备和检测仪器[J].微细加工技术,1992(3):68-74.
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10江泽流.微细制版中的干法刻蚀技术研究[J].电子工艺技术,1991(5):11-14.
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