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国内无晶圆厂IC企业技术探秘制程全曝光

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摘要据悉，目前国内的无晶圆厂IC(集成电路)设计企业已经将芯片的制程工艺提高到0．13微米的水平，有些已经将其研究成果由科研及服务中心的设计阶段过渡到大陆、台湾以及新加坡等地工厂的生产阶段。

出处《集成电路应用》 2004年第9期26-27,共2页 Application of IC

关键词晶圆厂企业技术国内设计企业服务中心生产阶段新加坡 IC 制程集成电路

分类号 TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学] F426.63 [经济管理—产业经济]

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集成电路应用

2004年第9期

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