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可用在超高真空环境下的碳石墨材料处理工艺
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摘要
该发明专利是一种可用在超高真空环境下的碳石墨材料的处理工艺,旨在解决碳石墨材料经机加工成型后用在超高真空环境下的问题。
作者
陈俊凌
机构地区
中国科学院等离子体物理研究所
出处
《科技开发动态》
2004年第12期39-40,共2页
R&D Information
关键词
碳石墨
工艺
成型
机加工
发明专利
超高真空
材料
分类号
TQ175.4 [化学工程—硅酸盐工业]
TB75 [一般工业技术—真空技术]
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