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ADI公司发布创新的iCMOS 圃旃ひ
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摘要
ADI日前发布了一种创新的半导体制造工艺—iCMOS^TM(工业CMOS),它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合,使诸如工企自动化和过程控制等高电压应用在性能、设计和节省成本方面达到了空前的水平。
出处
《电子产品与技术》
2004年第11期79-79,共1页
关键词
CMOS
ADI公司
半导体工艺
半导体制造工艺
双极型
互补金属氧化物半导体
亚微米
发布
节省
过程控制
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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1
ADI推出iCMOS模拟IC顿起波澜[J]
.今日电子,2004(12):135-135.
被引量:1
2
ADI公司发布创新的制造工艺ICMOS[J]
.电子世界,2005(1):83-83.
3
ADI公司发布创新的制造工艺并且推出一批适合工业应用的高电压模拟IC——iCMOS^(TM)创新制造工艺使模拟IC显著提高性能并且承受30V电源电压[J]
.电子技术应用,2005,31(1):39-39.
4
ADI推出iCMOS制造工艺[J]
.世界电子元器件,2005(1):78-78.
5
ADI推出多款多信道数据转换器[J]
.中国集成电路,2006,15(2):12-12.
6
AD866x:16V低噪声R-R放大器[J]
.世界电子元器件,2006(8):76-76.
7
ADI发布高电压工业应用新工艺模拟IC[J]
.电子产品世界,2004,11(12B):18-18.
8
Denis Doyle.
iCMOS^(TM)——工业电子工程领域的重大突破[J]
.今日电子,2005(1):77-78.
9
iCMOS新工艺为精密模拟部件增加可靠性[J]
.电子设计技术 EDN CHINA,2005,12(2):19-19.
10
朱瑞.
iCMOS是个好东西[J]
.软件世界(PC任我行),2002(11):11-11.
电子产品与技术
2004年 第11期
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