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ADI公司发布创新的iCMOS 圃旃ひ

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摘要 ADI日前发布了一种创新的半导体制造工艺—iCMOS^TM(工业CMOS),它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合,使诸如工企自动化和过程控制等高电压应用在性能、设计和节省成本方面达到了空前的水平。
出处 《电子产品与技术》 2004年第11期79-79,共1页

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