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氧化锌薄膜热退火特性的研究 被引量:1

Study on the Effects of Annealing on ZnO Film
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摘要 对退火前后氧化锌薄膜的结构特性、化学组分及化学价态,以及缺陷特性进行了详尽的研究.结果表明,低温热退火是改善氧化锌薄膜结构特性、化学组分及化学价态,并且减少缺陷的良好方法. Structure of ZnO film,chemical states of Zn and O in the film,and the defect properties are investigated in detail for both the pre-annealed and annealed samples. It is proved that annealing in O2 atmo-sphere at a low temperature is a practical way to improve the structure of the film and the Chemical states of Zn and O in the film, and decrease the defect density as well.
出处 《压电与声光》 CSCD 北大核心 1993年第5期51-55,共5页 Piezoelectrics & Acoustooptics
关键词 氧化锌薄膜 半导体材料 退火 缺陷 ZnO film, anneal, defect
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