ASML公司的90nm及其更小特征尺寸的光学光刻技术

2003年11月10日，ASML在浦东华美达大酒店(Ramada)四楼举办了一场光刻技术研讨会，并希望通过此次会议，使ASML及其技术合作伙伴在先进科技上将最新的一些成果和心得带给客户及业界，能够更好地促进与客户之间的技术交流。