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酸性脉冲电镀铜中脉冲参数的作用研究 被引量:9

A Study on Pulse Parameters in Acid Copper Pulse Plating
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摘要 文章通过正交实验,研究了酸性硫酸铜体系中周期反向脉冲电镀的主要脉冲参数及其交互作用对孔壁镀层均匀性的影响。脉冲电流比主要影响着小孔径阴极沉积与阳极溶解的平衡,也影响着阴极沉积与阳极溶解的平衡,同时也影响着添加剂的吸附行为。 Using othogonal experiment,forward pulse current density and time variables are applied to holes of various diameters to demonstrate through-hole uniformity.
出处 《印制电路信息》 2003年第3期59-65,共7页 Printed Circuit Information
关键词 酸性硫酸铜 脉冲电镀 脉冲参数 电镀均匀性 添加剂 PCB 电镀铜 印制电路板 pulse plating major parameters interaction electrodeposition uniformity
  • 相关文献

参考文献5

  • 1许家园,杨防祖,谢兆雄,周绍民.酸性镀铜液中Cl^—离子的作用机理研究[J].厦门大学学报(自然科学版),1994,33(5):647-651. 被引量:26
  • 2白蓉生.深孔镀铜的困难与因应",98年电路板采购及新制程手册:133-148
  • 3Michael Barbetta, Kim Barker, Don Hoppe, Craig Srrehlow,Pulse Plating in the Real World-Circuitree, 1999(3):10~18
  • 4Andy Lesko, PC Fab (Printed Circuit Fabrication), 1999(7):22~28
  • 5Richard Mazzoli, PC Fab (Printed Circuit Fabrication), 2000(1), 42~46

二级参考文献1

  • 1周绍民,厦门大学学报,1980年,1期,54页

共引文献25

同被引文献121

引证文献9

二级引证文献60

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