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步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展 被引量：22

Proress of Wafer Stage and Reticle Stage for Step-and-Scan-Lithography System
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摘要 着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。 Recent progress in technology of wafer stage and reticle stage used in step-and-scan lithography system is introduced, and the overlay accuracy and the accuracy of the overall system are analyzed.
作者 刘丹 程兆谷 高海军 黄惠杰 赵全忠 谌巍
机构地区 中国科学院上海光学精密机械研究所
出处 《激光与光电子学进展》 CSCD 2003年第5期14-20,共7页 Laser & Optoelectronics Progress
关键词 步进扫描投影光刻机 工件台 掩模台 发展状况 套刻精度 整机精度 测量系统 控制系统 step-and-scan lithography system, wafer stage, reticle stage, overlay accuracy
分类号 TP333.4 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
  • 相关文献

参考文献11

  • 1胡淞,苏伟军.0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算[J].光电工程,1998,25(3):7-11. 被引量：3
  • 2Bert Vleeming, Barbra Heskamp, Hans Bakker et al.. ArF step & scan system with 0.75NA for the 0.10mm node. Proc. SPIE,2001, 4346:634
  • 3Sluijk, Boudewijn, Castenmiller, Tom. Performance results of a new generation of 300mm lithography systems. Proc. SPIE,2001, 4346:544～557
  • 4Dick F allon. Application specific wafer stepper. Proc. SPIE, 1987, 772:210～217
  • 5van Hout F J, van den Brink M A, Wittekoek S et al.. Registration accuracy and critical dimension control for a 5' reduction stepper with magnification control. Proc. SPIE, 1987, 811:118～129
  • 6Hamaker H C, Buck P D. Performance of a new high-NA scanned-laser mask lithography system. Proc. SPIE, 1997, 3236:42～54
  • 7Somnargren G E. Linear/angular displacement interferometer for wafer stage metrology. Proc. SPIE, 1989, 1088:268～271
  • 8Valentin G E, Hamaker H C, Daniel J P et al.. Improvement throughput in 0.6-NA laser reticle writers. Proc. SPIE, 2001,4186:46～57
  • 9Kazuaki Suzuki, Shinji Wakamoto, Kenji Nishi. KrF step and scan exposure system using higher N.A. projection lens. Proc.SPIE, 1996, 2726:767～779
  • 10Buckley J D, Karatzas C. Step and scan: A systems overview of a new lithography tool. Proc. SPIE, 1989, 1088:424～433

二级参考文献5

  • 1张之航，半导体设备，1983年，2期，37页
  • 2张之航，半导体设备，1983年，2期，45页
  • 3赵立人，半导体设备，1983年，2期，25页
  • 4刘敦，静压气体润滑，1990年
  • 5胡淞，1994年中国青年学者光学研讨会论文摘要集

共引文献11

同被引文献164

引证文献22

二级引证文献123

激光与光电子学进展
2003年 第5期

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