摘要
《表面工程》杂志编辑部于1989年7月20日邀请部分北京气相沉积专家举行座谈。参加座谈会的专家有:郑中岳、刘家浚、徐冰仲、范玉殿、王怡德、王福贞、吕反修、范瑞麟、王葆初、王荫君、韩阶平、殷志强、张福林、张玉群。中国科协学会部寇铁城同志也参加了座谈会。现将座谈会关于国内外气相沉积发展情况整理成文发表。本文由表面工程研究所气相沉积研究室范玉殿教授汇集。本文综述了气相沉积的进展情况。主要涉及TiN 硬质膜、耐磨镀层、金刚石膜、阴极电弧渗钛、带钢真空镀铝、物理沉积高温涂层、太阳能吸热膜以及一种新型光盘存貯介质等。
This paper provides a board review of the progress in vapordeposition.Emphasis is placed on TiN hard coating,wear res-istant coatings,diamond films,Ti surface alloying using ca-thodic arc ion plating,Al vapor deposition on steel strip,hi-gh-temperature protective coatings,solar-energy adsorptioncoatings,and a new magneto-optical data storage medium.
出处
《表面工程》
CSCD
1989年第4期14-21,共8页
