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日本电气/德山合作开发安全光刻胶

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摘要日本电气公司(NEC)和德山公司(Tokuyama)将联手开发电子束(EB)平板印刷用高度安全的光刻胶。EB曝光是涉及10nm长晶体管栅的超精细加工关键技术。

出处《化工文摘》 2001年第9期60-60,共1页

关键词光刻胶晶体管 NEC 电子束日本电气公司曝光安全 EB 合作开发精细加工

分类号 TQ430.71 [化学工程] TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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化工文摘

2001年第9期

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