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EL薄膜的溅射工艺

Sputtering Process for Making EL Films
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摘要 本文介绍了采用分立型复合溅射靶制造 EL 薄膜的工艺。用这种方法可严格控制 EL 薄膜的化学计量及掺杂含量,并使掺杂物在薄膜里呈梯度分布。 This article relates to a sputtering process for producing EL films by adopting a plurality of discrete sputtering targets.Thus the stoichiometry and doping levels of the above EL films can be closely controled and a graded dopant profile can be provided in the films.
作者 郭淑慈
机构地区 上海电子管厂
出处 《真空电子技术》 北大核心 1993年第4期40-42,共3页 Vacuum Electronics
关键词 EL薄膜 溅射工艺 掺杂物 场致发光显示器 EL film sputtering process a plurality of discrete sputtering targets doping level a graded dopant profile
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