期刊文献+

在Cu_2O涂层上CH_4氧化反应的分子束研究

THE MOLECULAR BEAM STUDY OF THE OXIDATION OF CH_4 ON Cu_2O COAT
下载PDF
导出
摘要 用分子束技术和电子能谱研究了在Cu_2O涂层上CH_4的氧化反应。实验得到,这个反应的发生需要具备下述条件:(1)Cu_2O表面对氧呈解离吸附,并提供出活性氧原子;(2)CH_4分子束的平动能必须超过59kJ/mol;(3)样品温度不能超过750K。 The oxidation of CH_4 on Cu_2O coat has been studied with the molecular beam technique and the electron spectroseopy. It is found that this reaction occurs under the following conditions: (1) The dissociative a adsorption of O_2 on the Cu_2O coat offers an active oxygen atom; (2) The translational energy of CH_4 molecular beam has to be larger than 59 kJ/mol; (3) The temperature of the sample has to be below 750 K.
出处 《真空科学与技术》 CSCD 1993年第1期65-72,共8页 Vacuum Science and Technology
基金 国家自然科学基金
关键词 分子束 俄歇电子谱 甲烷 氧化 涂层 Molecular beam technigues, Catalysis, Translational energy, Auger electron spectroscopy
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部