光学太阳反射镜基底的辉光放电清洗

辉光放电清洗技术是一种用来改善膜层附着力的物理清洗方法。它是将基片浸没在含有化学活性气体辉光放电的等离子体中,使基片表面受到电子、离子和光子以及活性粒子的轰击、活化,从而达到清洗的目的。对于光学镀膜来说,目前大部分真空镀膜设备上的放电电极的安排是很不合理的。为此,重新设计并改进了辉光放电装置,通过放电清洗参数对清洗效果的实验研究,获得了最佳清洗工艺。经此工艺处理过的基片制备的光学太阳反射镜用胶带纸剥离法来检验膜层的附着力,结果表明,这种方法大大提高了膜层的附着力,其性能已完全能满足光学太阳反射镜在空间的使用要求。采用辉光放电清洗基片的光学太阳反射镜,其光学性能会受到少许影响。实验表明,它可使光学太阳反射镜的太阳吸收率增大0.002(石英玻璃型)和0.004(掺铈玻璃型)。为此,我们对因光学太阳反射镜光学性能改变而引起的卫星热控温升作了估算,对于石英玻璃型和掺铈玻璃型光学太阳反射镜这一温升仅分别为1.0℃～1.5℃和1.7℃～2.7℃。