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化学镀Ni——P连续补给的工艺研究

A Techcical Study on Electrcless Ni—P of Continous Replemshment
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摘要 本文给出了化学镀Ni—P含金槽液中镶盐及次亚磷酸钠消耗的规律性,采用较简单的方法,实现了在工作温度下直接对槽液进行连续补给,采用这种方法可将液控制在最隹工作状态,沉积速率恒定,镀层质量良好。 The laws of NIckel and Sodium hypophasphite comsumption in electroless nickel-phosphorus Plating Bath are given. A simpler method for continous replenishment at operation temperature is developed. The Bath can be operated under sptimum conditions. A Consistent plating rate and good electroless nickel deposits can be obtained.
机构地区 郑州工学院
出处 《郑州工学院学报》 1993年第2期44-49,共6页
关键词 化学镀镍 槽液 补给速率 dectroless nickel-phosphorus

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