用于光刻技术的物镜
-
1Joe Shiefman,黄印权.掩模测量[J].电子工业专用设备,1989(1):64-66.
-
2袁明文.X射线光刻现状[J].半导体情报,1991,28(4):17-22.
-
3赵丽新.EB制作1:1主掩模的工艺研究[J].微电子技术,1996,24(4):28-32.
-
4王国荃,罗腾蛟,陈福余,徐志如.对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析[J].微细加工技术,1992(1):1-6. 被引量：1
-
5冯伯儒.什么是相移掩模[J].光的世界,1992,10(3):10-11.
-
6周崇喜,胡松.光学光刻的现状及未来[J].电子工业专用设备,1999,28(2):2-4. 被引量：4
-
7谢常青,叶甜春,陈梦真.193nm与x射线光刻技术比较[J].半导体技术,1998,23(4):1-4. 被引量：2
-
8李毅杰.投影光刻物镜离焦工作状态分析[J].电子工业专用设备,1995,24(4):16-18.
-
9G.Makosch,F.prein,童志义.用于投影光刻机掩模自动对准的锁相干涉技术[J].电子工业专用设备,1989(1):56-63.
-
10郭士东.亚微米技术探讨[J].微处理机,1995,16(2):1-4.
;
