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用正电子技术研究铜板变形中的位错密度

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摘要 应用正电子湮灭-多普勒增宽技术研究了铜板在单向拉伸、平面应变和等双向拉伸变形条件下的位错密度变化规律。结果表明,当等儿应变从0.02增加到0.60时,位错密度从2.4×10^9cm^-2增加到7.5×10^10cm^-2;当等效应变量相同时,应变路径对位错密度的影响不明显。
出处 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第A12期45-49,共5页 Journal of University of Science and Technology Beijing
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