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用正电子技术研究铜板变形中的位错密度
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摘要
应用正电子湮灭-多普勒增宽技术研究了铜板在单向拉伸、平面应变和等双向拉伸变形条件下的位错密度变化规律。结果表明,当等儿应变从0.02增加到0.60时,位错密度从2.4×10^9cm^-2增加到7.5×10^10cm^-2;当等效应变量相同时,应变路径对位错密度的影响不明显。
作者
康永林
王先进
出处
《北京科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第A12期45-49,共5页
Journal of University of Science and Technology Beijing
关键词
正电子湮灭
铜板
位错密度
变形
分类号
TG146.11 [金属学及工艺—金属材料]
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北京科技大学学报
1993年 第A12期
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