在Fe/B溅射成膜中Ar离子的捕获

1 引言过去的许多研究表明,薄膜的物理性质与它的生长环境密切相关,特别是在膜的淀积中各种气体偏压会影响其成核生长、超导临界温度、电阻和磁性等。尤其是在相当高的高压放电环境中和溅射膜生长过程中,如Ar这样一些溅射气体将被带人膜中,使气体含量问题更为复杂,成为人们极为关注和不断开展研究的课题。 Winters和Kay对溅射金属膜中Ar含量进行了研究。