摘要
介绍了宽沟道SI-GaAs衬底上的BH激光器的制作,全部结构由两次外延形成,阈值电流为55mA。在I=2Ith时,P-I曲线仍保持良好的线性关系。
The fabrication of a BH laser on wide channel SI-GaAs substrate is introduced which is grown with two steps of epitaxy.The threshold of the laser is so mA with excellent linearity of P-I curve at I=2Ith.
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第1期73-77,共5页
Semiconductor Optoelectronics
基金
国家自然科学基金